以其印表機和相機而聞名的日本公司佳能於10 月13 日星期五推出了一項關鍵解決方案，旨在幫助生產尖端半導體組件。
根據CNBC報道，佳能最近推出的「Nano壓印光刻」系統代表了該公司對極紫外線（EUV）光刻機領域主導力量荷蘭公司ASML的競爭反應。 ASML 的機器對於生產尖端晶片至關重要，包括最新蘋果iPhone 中使用的晶片。
這些機器的使用已被成交量入中美之間的技術衝突。美國採取出口限制和各種制裁措施，旨在阻礙中國獲得關鍵晶片和製造機械，阻礙世界第二大經濟體在一個被認為已經落後的領域取得進展。
ASML 的EUV 技術因其在5 Nano及以下半導體生產中的關鍵作用而受到領先晶片製造商的廣泛關注。這種Nano測量涉及晶片特徵的尺寸，較小的值可容納晶片上的更多特徵，從而提高半導體性能。
據報道，佳能宣布其新系統FPA-1200NZ2C 可以生產匹配5nm 製程的半導體，並可縮小至2nm，超越了蘋果iPhone 15 Pro 和Pro Max 中的A17 Pro 晶片（3nm 半導體）的能力。
荷蘭政府對ASML 實施限制，阻止其EUV 光刻機出口到中國，但尚未向中國出貨。由於這些機器在尖端半導體晶片的生產中發揮關鍵作用，因此存在這種限制。
佳能聲稱他們的新機器可以促進相當於2nm 的半導體生產，因此很可能會面臨更嚴格的審查。
谷歌在人工智慧版權指控中保護用戶
Cointelegraph 早些時候報導稱，拜登政府正在針對一個漏洞，該漏洞允許中國開發商從中國南方城市深圳臭名昭著的華強北電子區購買晶片。
然而，中國已經發布了針對提供產生人工智慧（AI）服務的公司的安全法規草案，其中包括對用於人工智慧模型訓練的資料來源的限制。
雜誌：「人工智慧殺死了這個產業」：EasyTranslate 老闆談適應變化
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