作者：Amaka Nwaokocha，Cointelegraph；編譯：松雪，黃金財經
以印表機和相機聞名的日本公司佳能於10 月13 日推出了一項創新解決方案，旨在幫助生產尖端半導體元件。
根據CNBC的報導，佳能最近引入的「奈米壓印微影」系統代表了該公司對荷蘭公司ASML的競爭性回應，ASML是極紫外線（EUV）微影機領域的主要力量。 ASML的設備對於生產尖端晶片至關重要，包括用於最新的蘋果iPhone的晶片。
這些光刻機的利用已被捲入了美國和中國之間的技術衝突。美國透過出口限制和各種制裁，旨在阻礙中國獲得關鍵晶片和製造設備，妨礙了世界第二大經濟體在這一領域的進展。
ASML 的EUV 技術因其在5 奈米及以下半導體生產中的關鍵作用而受到領先晶片製造商的廣泛關注。這種奈米測量涉及晶片特徵的尺寸，較小的值可容納晶片上的更多特徵，從而提高半導體性能。
據報道，佳能宣布其新系統FPA-1200NZ2C 可以生產匹配5nm 製程的半導體，並可縮小至2nm，超越了蘋果iPhone 15 Pro 和Pro Max 中的A17 Pro 晶片（3nm 半導體）的能力。
荷蘭政府對ASML 實施限制，阻止其EUV 光刻機出口到中國。由於這些機器在尖端半導體晶片的生產中發揮關鍵作用，因此存在這種限制。
隨著佳能聲稱他們的新機器可以促進生產等同於2奈米的半導體，因此它很可能會面臨更多的審查和關注。
早些時候有報導稱，拜登政府正在關註一個漏洞，該漏洞中，中國開發商可以從華強北電子區購買晶片。
然而，中國已經發布了針對提供產生人工智慧（AI）服務的公司的安全法規草案，其中包括對用於人工智慧模型訓練的資料來源的限制。